ASML, 최첨단 EUV 노광장비 첫 행선지는 인텔

ASML의 하이 NA EUV인 ‘트윈스캔 EXE:5200’ [사진=ASML]

반도체 업계 '슈퍼 을(乙)'로 불리는 네덜란드 반도체 장비업체 ASML이 생산한 최첨단 하이NA 극자외선(EUV) 노광장비 첫 제품이 인텔에 공급된 것으로 알려졌다.

22일 관련업계에 따르면 블룸버그통신은 익명의 소식통을 인용해 ASML이 생산한 최신 반도체 제조 장비를 미국 오리건주에 있는 인텔의 D1X 공장으로 배송했다고 밝혔다.

인텔과 ASML 측은 이 장비의 최종 배송지를 공개하지 않았다. 현재 삼성전자와 대만의 TSMC 등은 ASML의 첨단 장비를 공급받기 위해 대기중인 상황이다.

인텔은 오는 2025년에 이 새 장비를 활용해 반도체를 생산할 계획이다. D 1X 공장은 인텔의 미래 생산 기술을 개발하는 시설이다.

앞서 ASML은 21일 소셜 미디어 X에 올린 게시물에서 "인텔에 첫 번째 하이 NA EUV 시스템을 출하하게 돼 기쁘고 자랑스럽다"고 밝혔다.

한편, 트윈스캔 EXE:5200으로 불리는 ASML의 이번 노광장비 첫 번째 모델 가격은 약 2억7500만 달러(약 3580억원)일 것으로 업계에서는 추정한다.