삼성전자도 '기술유출' 당할 뻔...양형위, '기술유출 범죄' 기준 높이나

양형위, 전체회의 열어

서울 서초구 대법원 전경 22.05.11[사진=유대길 기자 [e-mail]]

대법원 양형위원회가 기술유출 범죄의 양형 기준을 높이기 위한 첫 발을 뗄지 관심이 모이는 가운데 삼성전자 반도체 공장을 베껴 중국에 반도체 공장 설립하려 한 전직 삼성전자 상무가 기소되면서 기술유출 범죄 양형 기준 마련에 힘이 실리고 있다. 

양형위는 12일 서울 서초구 대법원에서 양형위원 전체회의를 열고 양형 기준 수정 대상 범죄군을 선정한다. 이후 9기 양형위는 본격적인 양형 기준 설정 및 수정 작업에 착수할 예정이다.
 
양형위 전문위원들은 앞서 지식재산권 범죄의 양형을 개선해야 한다는 의견을 낸 것으로 알려졌다. 산업계·법조계에서도 첨단 기술이 기업의 핵심 동력이자 국가 경쟁력으로 떠오른 반면 기술유출 범죄 처벌은 턱없이 낮다고 지적해왔다.
 
지난 8일 양형위에 ‘기술유출 범죄 양형기준 개선에 관한 의견서’를 제출한 전국경제인연합회(전경련)을 비롯해 대검찰청·경찰청·특허청·산업통상자원부 등 여러 관계 부처도 기술유출 범죄 양형 기준을 재정비해달라는 취지의 의견서를 전달했다.

 

기술유출 범죄 대부분 무죄·집유...양형 기준, 법정형 미달 

 
기술유출 범죄 처벌을 담고 있는 ‘산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법)’과 '부정경쟁방지 및 영업비밀보호에 관한 법률(부정경쟁방지법)'에서는 국가핵심기술 해외유출 시 3년 이상 징역과 15억원 이하 벌금에 처하도록 하는 등 적지 않은 법정형을 규정하고 있으나 법정에서는 대부분 무죄 선고나 가벼운 처벌이 내려졌다.

전경련이 대법 사법연감을 통해 분석한 자료에 의하면 2021년 산업기술보호법 위반 형사사건 33건 중 절반 이상(60.6%)이 무죄였다. 나머지 실형 선고도 집행유예(27.2%)가 대부분을 차지했고 재산형과 유기징역은 각각 2건(6.1%)에 그쳤다. 

전문가들은 관련 법령에서 기술유출 범죄 형량을 지속적으로 상향하고 있지만 양형 기준은 2017년 그대로인 점을 지적했다. 양형위 양형 기준상 기술유출 범죄는 일반 형사 사범과 같은 선상에서 다뤄지는 데 이는 횡령·배임죄와 증권·금융범죄 양형기준 등에서 양형인자를개로 세분화한 것과 대비된다. 

윤해성 형사사법정책연구원은 "산업기술보호법이나 부정경쟁방지법에서 형량은 높게 규정돼 있으나 실제로 집행유예나 실형이 선고되는 경우는 드물다"며 "현재 양형 인자가 일반 형사 사범에 국한되어 있어 기술 유출 등 산업 스파이에 대한 독립적인 양형 인자가 아니다"고 설명했다.

한편, 반도체 생산 핵심 공정을 중국으로 빼돌리려 한 전 삼성전자 상무 A씨가 최근 기소됐다. 수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(박진성 부장검사)는 이날 A씨를산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 구속 기소했다고 밝혔다.

A씨는 중국 시안에 있는 삼성전자 반도체 공장과 불과 1.5㎞ 떨어진 곳에 삼성전자 복사판인 또 다른 반도체 공장을 건설할 목적이었던 것으로 조사됐다. A씨가 부정 사용한 정보는 30나노 이하급 D램 및 낸드플래시를 제조하는 반도체 공정 기술로, 국가핵심기술에 해당한다.