中 SMIC, 첫 중국산 DUV 노광장비 시험 가동...반도체 자립 박차

7나노칩 생산 시도 계획도

[사진=로이터·연합뉴스]

중국 최대 파운드리(반도체 위탁생산) 기업 중신궈지(SMIC)가 상하이 소재 스타트업 위량셩(宇量昇)이 개발한 심자외선(DUV) 노광장비를 처음으로 시험 가동하고 있다고 파이낸셜타임스(FT)가 익명의 소식통을 인용해 16일(현지시간) 보도했다.

DUV 노광장비는 45∼7나노미터(1억분의 1미터) 공정에 쓰이는 반도체 핵심 장비다. SMIC는 이번 시험 가동에 28나노 공정용 장비를 도입한 것으로 전해졌다. 또한 멀티 패터닝(multi-patterning·반복 노광 공정) 기술을 활용해 7나노미터 칩 생산도 시도할 계획인 것으로 알려졌다.

미국의 대중국 반도체 압박으로 반도체 생산 자립에 속도를 내고 있는 중국이 네덜란드 ASML에 의존했던 핵심 장비의 국산화에 속도를 내고 있는 것이다. 미국 시장조사업체 번스타인의 린칭위앤 반도체 전문가는 "이번 시도가 성공한다면 중국 기업들이 더욱 진보된 반도체 장비를 개발하는 데 중요한 전환점이 될 것"이라고 말했다.

다만 일부 전문가들은 이 장비가 수율을 최대한 개선해 5나노 칩까지 생산할 수도 있으나, 그보다 발전된 공정은 불가능하다고 평가했다. ASML은 미국의 요청에 따라 2나노 등 최첨단 칩 생산이 유일하게 가능한 극자외선(EUV) 노광장비의 중국 수출을 금지하고 있다. 

SMIC가 이번 시험 가동에 성공하더라도 관련 부품 국산화와 대량 생산, 수율 개선 등도 남은 과제다. FT는 "위량셩 장비 부품의 일부는 해외에서 조달되는데, 이에 대한 전량 국산화를 시도하고 있다"면서 "대량 생산 여부와 전격 도입 시기는 여전히 불분명하다"고 지적했다. 이어 "해당 라인에서 생산되는 칩의 안정성과 수율이 일정 수준에 도달하기 위해서는 최소 1년이 걸릴 것"이라고 덧붙였다.

한편 이같은 소식이 전해지면서 이날 중국증시에서 노광장비 관련주가 급등세를 보였다. 보장광뎬(波长光电), 융신광쉐(永新光学)는 상한가를 기록했고, 쑤다웨이거(苏大维格)와 훙리즈후이(鸿利智汇)는 각각 14%, 10% 넘게 올랐다.