삼성전자는 30일 오전 2026년 1분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 "올해 AI 수요 지속에 따라 캐팩스 규모가 전년 대비 상당한 수준으로 증가할 것으로 예상된다"면서 "기술 리더십 확보를 위해 차세대 공정과 요소 기술 등 선행 연구 개발 투자를 더욱 확대하겠다"고 밝혔다.
이어 "미래 수요에 적극 대응할 수 있도록 전략 거점을 강화하고 추가 인프라를 확보함으로써 급변하는 시황을 면밀히 점검하며 탄력적으로 투자를 집행할 계획"이라고 강조했다.
1분기 시설투자는 11조2000억원으로 전분기 대비 9조2000억원 감소했다. 부문별로는 DS가 10조2000억원, 디스플레이는 6000억원이다.
삼성전자 측은 "메모리의 경우 지난해 말 평택 사업장의 신규 클린룸 도입 등 투자 집행을 선반영해 전분기 대비 투자 지출이 감소했다"면서 "올해는 해당 공간을 활용한 설비 투자가 확대되면서 전체 캐팩스 또한 상당히 증가할 전망"이라고 밝혔다.
또 "파운드리는 지난해 4분기 미국 테일러 팹 주요 인프라 투자가 기저 효과로 작용하면서 전분기 대비 투자 지출이 감소했다"면서 "테일러 가동을 위한 투자는 2분기를 시작으로 올해는 지속 증가할 전망"이라고 밝혔다.
삼성전자는 앞서 연구·개발(R&D)와 시설투자(CAPEX)를 포함해 올해 110조 원을 투자한다고 발표한 바 있다. 이 가운데 R&D에 40조원, CAPEX에 70조원을 투입할 것으로 보인다.
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