日 기업에 '2나노 기술 유출'…TSMC 전 직원, 8년8개월 구형

대만 TSMC [사진=AFP·연합뉴스]

대만 파운드리(반도체 수탁생산) 기업 TSMC의 최첨단 공정인 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 기술을 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 TSMC 전 직원에게 대만 검찰이 8년 8개월형을 구형했다.

6일 자유시보 등 현지 언론에 따르면 전날 대만 고등검찰서는 지난해 8월 2나노 기술 유출 혐의로 기소된 TSMC 전 직원 천리밍에 대한 추가 조사에서 또 다른 관련자 2명을 찾아냈다면서 이같이 밝혔다.

검찰은 TSMC 퇴직 후 도쿄일렉트론(TEL) 엔지니어로 이직한 천리밍이 공범 천모 전 TSMC 엔지니어, 루모 TEL 고위 간부에 대해 실토하며 물증을 제시했다고 전했다. 이어 천리밍은 회사 모니터에서 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 관련 기밀 자료를 천씨에게 받아 TEL 클라우드 드라이브에 올렸다고 덧붙였다.

하지만 추가로 체포된 천씨는 혐의를 전면 부인하면서 반성하는 태도를 전혀 보이지 않는 등 죄질이 매우 불량해 8년 8개월형을 구형했다고 검찰은 밝혔다.

앞서 TSMC의 최첨단 공정인 2㎚ 기술이 일본 기업으로 유출됐을 가능성이 제기되면서 대만 사회에 충격을 줬다.

대만 고등검찰서는 지난해 8월 국가안전법상 '국가핵심 관건기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 천리밍 등 3명을 재판에 넘겼고, 천씨 등 2명을 추가로 기소했다.