'최신 반도체 공정 유출' 삼성전자 前직원, 항소심서 실형

[사진=연합뉴스]

반도체 초미세 공정 관련 국가핵심기술과 영업비밀을 유출한 혐의로 기소된 전직 삼성전자 직원이 항소심에서도 징역형의 실형을 선고받았다.
 
17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(이성범 부장검사)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 재판에 넘겨진 전 삼성전자 엔지니어 최모씨(44)에게 징역 1년 6월의 실형과 1000만원의 벌금을 선고했다.
 
최씨는 삼성전자에서 근무하던 중 해외 경쟁업체인 인텔에 파운드리 반도체의 핵심 기술이 담긴 파일을 유출하려 한 혐의로 기소됐다. 인텔 이직을 준비하던 것으로 알려진 최씨는 반도체 초미세 공정과 관련된 33개 파일을 외부에서 열람하고 이를 촬영해 유출한 것으로 확인됐다.
 
검찰은 1심에서 최씨에게 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했다. 1심은 최씨에게 징역 1년6월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했고 검찰은 바로 항소했다.