중국 0.1나노 반도체 분석장비 현미경 개발

궈이량쯔, 200kV급 전계방출 투과전자현미경 공개

반도체 결함 분석·핵심장비 자립 기반 강화

궈이량쯔가 선보인 전자현미경 TEM-F200 [사진=궈이량쯔]

중국이 반도체와 첨단 소재의 원자 수준 분석에 필요한 고급 투과전자현미경(TEM)을 국산화했다. 

중국 과학기기 업체 궈이량쯔(國儀量子, CIQTEK)는 지난 18일 난징에서 열린 ‘2026년 전국 전자현미경학 학술대회’에서 200kV급 전계방출 투과전자현미경 ‘TEM-F200’을 공개했으며, 해당 제품이 중국 반도체업계에서 상당한 호평을 받고 있다고 상하이증권보가 22일 전했다. 

이 제품은 정보분해능력 0.1나노미터(nm), 점분해능력 0.25nm를 구현했으며, 양산과 납품이 가능한 단계에 도달했다. 궈이량쯔는 중국 안후이성 허페이에 기반을 둔 양자 정밀측정 및 고급 과학기기 개발업체다. 전자현미경을 비롯한 정밀 분석장비의 연구개발·제조·판매·서비스 역량을 구축해 왔으며, 이번 제품은 핵심 모듈부터 제어·분석 소프트웨어, 시스템 통합까지 자체 개발했다. 전자총과 고전압 전원, 전자광학계, 검출기 등을 안정적으로 연동해야 하는 200kV급 장비의 기술적 난제를 해결했다는 것이 회사의 설명이다. 

반도체 산업에서 투과전자현미경은 칩 내부의 미세 구조를 들여다보는 핵심 분석장비다. 반도체 단면을 고해상도로 관찰해 트랜지스터 구조와 박막 두께, 재료 간 계면, 결정 배열 등을 분석할 수 있다. 공정 과정에서 발생한 미세한 공극이나 결함, 불순물의 원인을 찾아내고 소자의 성능과 신뢰성을 검증하는 데도 활용된다. 미세화가 진행될수록 결함의 원인을 정확하게 파악하는 능력이 수율과 첨단 공정 개발 경쟁력을 좌우한다.  

글로벌 시장에서는 미국의 써모피셔사이언티픽과 일본의 일본전자, 히타치 등이 주요 공급업체로 꼽힌다. 이들 업체의 200kV급 주력 제품은 정보분해능 약 0.11~0.12nm 수준으로, 궈이량쯔의 신제품은 주요 성능 지표에서 글로벌 선도 제품에 근접했다. 이번 국산화로 인해 중국 반도체 기업들은 장비 구매뿐 아니라 핵심 부품 조달과 유지보수, 소프트웨어 지원에서도 해외 업체에 대한 의존도를 낮출 수 있게 됐다.