​삼성전자, 화성 EUV 라인 ‘첫삽’... 초기 투자만 6조5000억 규모

삼성전자가 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV(극자외선) 라인 기공식'을 열고 본격적인 라인 건설에 착수했다.

삼성전자는 화성 EUV 라인을 내년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년 가동을 목표로 하고 있다. 초기 투자에만 6조5000억원이 들어가며, 향후 시황에 따라 그 액수가 더욱 커질 것으로 관측된다.

이날 기공식에는 권칠승 국회의원(화성시병), 황성태 화성시 부시장, 김기남 삼성전자 DS부문장(사장), 정은승 삼성전자 파운드리 사업부장(사장), 지역주민 등 약 300명이 참석했다.

김 사장은 기념사를 통해 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥ㆍ화성ㆍ평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이며, "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것"이라고 강조했다.

이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV 장비가 본격 도입될 예정으로 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상된다.

반도체 산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력효율을 향상시켜왔다. 그러나 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 되었다.

EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있다.

삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이다.

한편 지난 2000년도 삼성전자 화성캠퍼스 개발로 시작된 삼성전자와 화성시의 동반성장은 이번 EUV 신규라인 건설로 더욱 확대될 전망이며, 화성시는 첨단 반도체 산업의 메카로서의 입지를 확고히 하게 됐다.