금호석화, 미래 핵심사업은 합성고무와 디스플레이… ‘투 트랙’ 강화

금호석유화학 대전중앙연구소에서 연구원들이 제품 실험을 하고 있다. [사진=금호석유화학 제공]

아주경제 양성모 기자 = 금호석유화학이 수익원 다변화를 위해 팔을 걷어부쳤다. 중국의 추격이 한창인 가운데 중간재 생산 등으로는 더이상 수익성 확대를 기대하기 어렵다는 판단에서다.

28일 관련업계에 따르면 금호석화는 세계 일등 제품을 현재 12개에서 2020년까지 20개로 확대한다는 목표 아래 주력제품 경쟁력 강화와 신제품 개발을 위한 연구개발(R&D)에 역량을 집중하고 있다.

이를 위해 금호석화는 올해 연구개발사업의 핵심 키워드로 ‘합성고무’와 ‘디스플레이’를 잡았다.

우선 최대 승부처인 타이어 부문에서는 브랜드별로 고유의 특장점을 구현하는 실리카 친화적인 4세대 SSBR(솔루션스타이렌부타디엔고무) 제품 포트폴리오를 확충하고 있다. 부가가치가 높은 고성능 타이어의 경우 회전저항력과 노면접지력 등 타이어효율등급제가 요구하는 연비및 안전조건을 충족하기 위해서는 실리카 친화성이 높은 합성고무를 필요로 한다.

산업용 라텍스 장갑은 새로운 성장기회를 제공할 것으로 기대된다. 우수한 내마모성 및 내화학 특성으로 자동차, 금속, 화학 관련 산업에 필수적인 안전장비로 이용돼 향후 높은 시장 성장성이 기대되기 때문이다. 현재 금호석화는 고형 합성고무 외에도 액상의 합성라텍스 제품군에서도 세계적인 기술력을 보유하고 있다.

금호석화는 내후성 플라스틱 소재의 고무 특성을 강화시키는 연구도 활발하게 진행중이다. 고무 함량이 높아 강도와 탄성 밸런스가 좋은 ‘ASA 수지’를 건축 외장재 및 자동차용 컴파운딩 소재로 개발하고 있다.
이와함께 탄소나노튜브(CNT)를 응용한 복합소재 개발도 한창이다. 금호석화는 내화학성과 내유성이 우수한 합성고무 ‘NBR’에 CNT를 접목시켜 기존 카본필러 대비 우수한 내화학성과 전기전도도를 발현하는 프린터 롤러용 복합소재를 개발인 것으로 전해졌다.

기존 반도체 화학물질 연구는 성과를 내고 있다. 금호석화는 나노미터(nm) 단위의 반도체 미세회로 제작에 필수적인 고성능 193nm 파장용 포토레지스트(ArF Photoresist) 기술과 세계 6위의 생산능력을 확보하고 있다.

금호석화는 지난해 메모리 임플란트 포토레지스트 기술을 개발 및 상업화한데 이어 올해는 고집적 평면 반도체의 용량 한계를 극복할 수 있는 3D 낸드 메모리용 포토레지스트 제품을 중점 연구하고 있다.

금호석화 관계자는 "D램 등 기존 메모리 반도체보다 복잡한 회로를 가진 비메모리 반도체용 포토레지스트 제품을 개발, 삼성전자와 SK하이닉스 등 고객과의 협력관계를 확대해 나갈 예정"이라고 말했다.